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半導(dǎo)體器件制造過程中液體成分濃度檢測設(shè)備ChemicAlyzer介紹

發(fā)布時(shí)間：2024-11-22　點(diǎn)擊量：186

半導(dǎo)體器件制造過程中液體成分濃度檢測設(shè)備ChemicAlyzer介紹

ChemicAlyzer是一款利用光吸收原理并采用在線設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)連續(xù)測量的液體成分濃度計(jì)。自 1990 年作為紅外液體成分濃度計(jì)的先驅(qū)開始業(yè)務(wù)以來，我們利用豐富的專業(yè)知識(shí)和技術(shù)，響應(yīng)不斷發(fā)展的半導(dǎo)體器件制造過程中的測量需求，提高質(zhì)量和化學(xué)濃度。管理。
我們將通過靈活應(yīng)對工藝和特殊化學(xué)溶液，并通過高精度化學(xué)濃度測量“滿足一步的測量需求"，繼續(xù)為制造工藝的優(yōu)化做出貢獻(xiàn)。

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  • 高質(zhì)量

    我們?yōu)槊總€(gè)測量目標(biāo)選擇最佳波長，并為每個(gè)設(shè)備創(chuàng)建校準(zhǔn)曲線。
    我們提供穩(wěn)定的產(chǎn)品，機(jī)器變化很小，并通過了檢驗(yàn)測試。

  • 02

    高性能

    ChemicAlyzer 是一款高性能濃度計(jì)，具有出色的響應(yīng)和分辨率。
    可以控制濃度，而不會(huì)遺漏高度分解成分的哪怕最輕微的變化。

  • 03

    高耐用性

    有助于降低長期運(yùn)行成本。
    十多年來，我們一直持續(xù)提供支持，并擁有客戶使用我們產(chǎn)品的記錄。

倉敷紡績的成分濃度計(jì)應(yīng)用于以下行業(yè)！

  • 晶圓制造流程

  • 半導(dǎo)體制造工藝


    • 液晶面板制造流程

    • 板材制造流程

    • 晶體諧振器制造工藝

  • ?抗蝕劑剝離液的濃度控制

  • ?再生藥液的濃度管理

  • ?后處理用化學(xué)溶液的濃度控制

  • ?酸堿清洗液的濃度控制

  • ?氧化膜/氮化膜蝕刻液的濃度控制

  • ?其他特殊化學(xué)溶液的濃度控制

它還用于廣泛的行業(yè)，包括電池材料制造過程以及清酒和醋的發(fā)酵測量。
我們的高性能測量技術(shù)得到了高度評(píng)價(jià)，在日本、東亞和美國已銷售超過3,000臺(tái)！

基本規(guī)格

測量方法近紅外透射光譜
最短測量時(shí)間2秒
測量值輸出DC4-20mA
輸入信號(hào)晶體管電流驅(qū)動(dòng)輸入（測量、校準(zhǔn)、預(yù)熱結(jié)束等）
輸出信號(hào)集電極開路輸出（READY、BUSY、設(shè)備錯(cuò)誤、測量、成功、上下限報(bào)警等）
接液部件材料石英池規(guī)格：PFA、PTFE、石英（池）、全氟（O 型圈）
藍(lán)寶石池規(guī)格：PFA、PTFE、藍(lán)寶石（池）、Kalrez（O 型圈）
最大工作壓力0.2MPa
配管直徑IN: Φ3 × Φ2 OUT: Φ4 × Φ3 (mm) 包含每根 1m 管

化學(xué)液體清單

主要用途成分1成分2成分3評(píng)論通用名推薦高精度型需要特殊波長
半導(dǎo)體氨雙氧水

APM、SC1

高頻





高頻

稀氫氟酸○○
H 2 SO 4雙氧水

SPM

高頻雙氧水

氟甲基丙烯酸甲酯

高頻雙氧水
稀氟甲基丙烯酸甲酯○○
高頻鹽酸


○○
高頻H2SiF6


○
人機(jī)交互雙氧水

HPM、SC2
○
氫氧化鉀雙氧水




氫氧化鈉雙氧水




H 3 PO 4





高頻NH4F


○
高頻硝酸3


○
高頻雙氧水CH3COOH

◎
液晶四甲基氫氧化銨

開發(fā)商


H 3 PO 4硝酸3CH3COOH蝕刻
◎
H 2 SO 4雙氧水銅蝕刻
◎○
水胺溶劑抗剝落
◎○
其他的異丙醇





水

有機(jī)溶劑中微量水分

○
CH3COOHC2H5OH
醋

○
C2H5OH葡萄糖
日本清酒
○○

*由于采用光學(xué)方法，因此無法測量不透光的不透明化學(xué)溶液


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