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半導(dǎo)體制造工藝中CMP后鉑殘留物去除案例分析

發(fā)布時間：2023-07-11　點擊量：592

半導(dǎo)體制造工藝中CMP后鉑殘留物去除案例分析

蝕刻后去除鉑殘留物

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蝕刻后去除鋁殘留物

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CMP后埋在凹槽中的泥漿去除

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蒸汽清洗核心技術(shù)

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蒸汽2流體清洗機(jī)組|SSC系列

蒸汽雙流體清洗裝置“SSC系列"以超音速從超音速噴射噴嘴注入蒸汽和液體流體，在物體表面產(chǎn)生微空化以進(jìn)行清潔。 通過將液體與蒸汽混合，產(chǎn)生兩種流體，并且清潔能力大大提高。 為了抑制金屬污染和微小異物的產(chǎn)生，在特殊材料上涂上表面涂層以產(chǎn)生高純度蒸汽。

蒸汽2流體清洗機(jī)組基本信息|SSC系列

長處由于它不與物體接觸，因此沒有耗材，運行成本大大降低。
僅使用“純水"
顯著減少用戶對化學(xué)品的使用
也可以安裝在現(xiàn)有的清潔設(shè)備中
無金屬污染，因此也可用于清潔半導(dǎo)體
基本配置蒸汽發(fā)生器
超聲波蒸汽噴射噴嘴
與洗衣機(jī)的通信功能（可選）
蒸汽發(fā)生器蒸汽產(chǎn)生量：2~100kg/h
* 可提供與所需蒸汽量相對應(yīng)的尺寸。
使用電源：純水，200VAC
蒸汽壓力控制范圍：0.05-0.3MPa
應(yīng)用/成就示例【應(yīng)用】

?太陽能電池基板的清洗 

?LED制造中的金膜剝離（脫落）

?玻璃基板等的清洗 

?加工后去除油污和異物 

?涂裝前的清洗 

?去除粘合劑


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